東莞市三本精密儀器有限公司
DONGGUAN SABEN PRECISION INSTRUMENT CO.,LTD
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卡爾蔡司(上海)管理有限公司官方網站
產品分類:掃描電子顯微鏡
產品品牌:
市場價格:¥0.00
本站價格:¥0.00
產品簡介:
蔡司公司最新推出Sigma300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計,將低電壓成像技術發揮到了極致,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節省了設置與分析操作的時間,提高效率。
蔡司SIGMA 300場發射掃描電鏡
世界頂級光學品牌,可見光學和電子光學的領導者。其電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和ZEISS。1965年推出世界第一臺商業化掃描電鏡;1985年推出世界上第一臺數字化掃描電鏡。EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領域,LS 10用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業界領先的X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。
用途:
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。
SIGMA 300場發射掃描電鏡技術介紹:
分辨率: 1.2nm @15 kV 2.2nm @1kV
放大倍數:10-1,000,000×
加速電壓:調整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現)
探針電流: 4pA-20nA (40nA&100nA可選)
低真空范圍: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
樣品室: 365 mm(φ),275mm(h)
樣品臺:5軸優中心全自動
X=125mm
Y=125 mm
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 連續
系統控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
(內容最多500個漢字,1000個字符)